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簡(jiǎn)要描述：【產(chǎn)品名稱】1200℃-CVD梯度管式爐【爐管尺寸】φ25--φ120mm【加熱區(qū)】300mm+300mm 【額定溫度】1200℃【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
產(chǎn)品型號(hào)：STGCT-60-12廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2023-11-16訪 問 量：2466詳細(xì)介紹
| 品牌 | 三特爐業(yè) | 升溫速度（達(dá)到最高溫） | 90/min |
|---|---|---|---|
| 加熱方式 | 電阻式 | 控溫精度 | ±1℃ |
| 最高溫度 | 1200℃ | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
| 儀器種類 | 管式爐 | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
【產(chǎn)品名稱】1200℃-CVD梯度管式爐
【爐管尺寸】φ25--φ120mm
【加熱區(qū)】300mm+300mm
【額定溫度】1200℃
【控溫精度】±1℃
【應(yīng)用領(lǐng)域】化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
1200℃-CVD梯度管式爐是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中用來沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
爐外殼
1、外殼采用金屬Q235低碳鋼，表面靜電耐藥涂裝，抗腐蝕
2、 堅(jiān)固的雙層金屬框架配合隔熱風(fēng)扇結(jié)構(gòu)，爐表面溫度低
3、水平使用方式，上開蓋結(jié)構(gòu)，操作方便
耐火材料
多層隔熱設(shè)計(jì)，由輕質(zhì)氧化鋁陶瓷纖維和高品質(zhì)隔熱板背襯組成，不含石棉成分，熱損失小，能耗低
加熱系統(tǒng)
1、高品質(zhì)HRE螺旋電阻絲發(fā)熱體，牢固的鑲嵌在爐膛表面，在爐腔內(nèi)自由熱輻射加熱，使用壽命長(zhǎng)
2、電阻絲環(huán)形加熱，從而實(shí)現(xiàn)爐內(nèi)的良好均勻性
溫度控制面板
1、PID配合SSR控制方式，溫度控制準(zhǔn)確
2、國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化N型鎳鉻硅熱電偶，測(cè)溫范圍0-1300℃，使用壽命長(zhǎng)
3、爐門帶有開門斷電保護(hù)開關(guān)
程序控制器
1、適應(yīng)復(fù)雜工藝需求的的控制器
2、操作簡(jiǎn)單直接，編程靈活
3、可編程4條曲線，單條曲線8個(gè)程序段
4、超溫和故障報(bào)警，自動(dòng)進(jìn)行保護(hù)
真空氣氛功能
1、帶有304不銹鋼的密封法蘭，獲得爐管內(nèi)的真空或者氣氛
2、高品質(zhì)石英玻璃工作管，也可選擇金屬或剛玉材質(zhì)的工作管，從而適應(yīng)不同的工況
3、高性能雙極旋片真空泵，可獲得5pa的真空度，數(shù)字真空計(jì)可顯示真空度
4、帶有氣路控制單元，控制單元可選擇1-3路MFC自動(dòng)控制系統(tǒng)
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